Topolojik yalıtkanlardan yüksek enerjili ağır iyon bombardıman deneylerine oda koşullarında taramalı uç mikroskopisi uygulamaları

Topolojik yalıtkanlardan yüksek enerjili ağır iyon bombardıman deneylerine oda koşullarında taramalı uç mikroskopisi uygulamaları

Oğuzhan Gürlü

İstanbul Teknik Üniversitesi

Özet: Taramalı Tünelleme Miksroskopisi (TTM), atomik ölçekte görüntüleme şansı veren bir teknik olmasına karşın incelenebilecek örneklerin (yarı)iletken ve atomik mertebede temiz yüzeyler olması gereksinimi bu tekniği çoğunlukla ultra yüksek vakuma (UYV) sınırlamaktadır. Ancak TTM ile oda koşullarında
çalışılabilecek fiziksel sistemler, grafit gibi soy yüzeyler, bulunduğu gibi, son on beş yıldır daha yoğun bir ilgi alanı olan foton-TTM tekniği de bazı alaşım yüzeylerine, oda koşullarında, uygulanabilmektedir. Atomik ölçekte bilgi veren TTM tekniği sayesinde sadece yüksek düzenli pirolitik grafit (HOPG) gibi yüzeyler değil, bu gibi yüzeylere çarpan GeV mertebesinde enerjiye sahip U ve Pb gibi yüksek yüklü iyonların oluşturduğu kusurların etkileri incelenebilmektedir.

Konuşmada öncelikle çok katmanlı grafen sistemlerinin atomik ölçekte yapısal ve elektronik özelliklerinden bahsedilecek, atomik ve elektronik moire desenleri konu alınacaktır. Yüksek enerjili ağır iyonların bu yüzeylerde oluşturduğu kusurların TTM ile gözlemleri sunulacaktır. Günümüze değin bilindiği üzere bakır yüzeylerinin atmosferik koşullarda TTM ile incelenmesi mümkün olmamıştır. Grafen yardımı ile, bakır yüzeylerinin yapısal ve elektronik özellikleri hakkında, foton-TTM ile ne gibi yeni bilgiler elde edildiği konuşmanın ikinci kısmında irdelenecek, bu tekniğin alaşımların yüzey optik/plazmonik özelliklerinin anlaşılmasına ne gibi katkılar sağlayacağı anlatılacaktır. Son kısımda ise günümüzün popüler malzemesi olan topolojik yalıtkanlara bir örnek olan Bi2Te3 kristallerinin yüzeylerinin oda koşullarında atomik yapıları hakkında yeni bulgular paylaşılacaktır.

 

Yer : MSGSÜ Bomonti Binası, Fizik Bölümü
Tarih : 14 Mayıs 2015 Perşembe, 15:00